Im Projekt Nanotex arbeitet das Fraunhofer ISE an einem neuartigen Texturierungsverfahren für kristalline Siliciumsolarzellen. Dieses Verfahren basiert auf der Nanoimprint-Lithographie, bei der eine Ätzmaske in einem Stempelverfahren strukturiert wird und somit anschließend ein definierter Ätzprozess durchgeführt werden kann. Dieses Stempelverfahren soll die Photolithographie ersetzen, die zum Erreichen höchster Wirkungsgrade nur im Labormaßstab verwendet wird.
Um das Stempeln der Ätzmaske industrietauglich zu gestalten, soll dies in einem Rollenprägeprozess realisiert werden. Neben einer vereinfachten Prozessführung zur klassischen Photolithographie ermöglicht die Nanoimprint Lithographie eine erhöhte Strukturauflösung sowie die Möglichkeit, kontinuierliche Profile in Ätzmasken herzustellen. Ein Anwendungsschwerpunkt des Nanotex Projekts liegt auf der Vorderseitentextur multikristalliner Siliziumsolarzellen, da hier noch ein großes Optimierungspotential zu gängigen industriell hergestellten Texturen besteht.
Quelle: Bundesministerium für Umwelt, Naturschutz und Reaktorsicherheit (BMU)
